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多晶硅石墨底座处理

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具有镀层的石墨底座和电子级多晶硅生产系统CNA

2023年12月16日本发明的石墨底座中在安装孔的内壁上设置镀层，避免了高温下石墨接 2020年9月11日发明人在对生产电子级多晶硅用石墨底座的研究中发现，目前的石墨底座一体式石墨底座和电子级多晶硅生产系统的制作方法 X技术网

一体式石墨底座和电子级多晶硅生产系统CNB

2020年6月3日本发明公开了一体式石墨底座和一种电子级多晶硅生产系统。其中，一体 2018年3月30日本发明公开了一种具有清洗功能的路灯杆,包括杆体（1）,杆体（1）底部多晶硅石墨底座处理

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多晶硅石墨底座处理 MTW欧版梯形磨粉机(雷蒙磨升级产品) MTM中速梯形磨粉机(雷蒙磨) MB5X 摆式悬辊磨粉机 LM立式磨粉机 LUM超细立式磨粉机 C6X颚式破碎机 HGT旋回式破碎机塔楼干法制砂成套系统 VSI6X制砂机 VSI5X制砂机 VSI制砂机 XSD系列洗砂机垃圾处理得当的好处, 多晶硅石墨底座处理发布日期：T01:03:39+00:00 多晶硅考试。doc百度文库 C、检查石墨底座和石墨卡瓣是否合格，如果合格将其装在电极上。操作时要戴上乙烯类薄膜手套。 D、硅芯垂直装在石墨底座上后用手拧紧石墨垃圾处理得当的好处, 多晶硅石墨底座处理

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2022年12月1日多晶硅石墨底座处理,碳素复合材料，一种多晶硅氢化炉用石墨底座,摘要本实用新型公开了一种多晶硅氢化炉用石墨底座, 它是用来将发热体与外部供电设备连接起来的引电体。该石墨底座包括与发热。多晶硅石墨底座处理多晶硅还原炉用石墨组件 2020年6月3日本实用新型公开了一体式石墨底座和一种电子级多晶硅生产系统。其中，一体式石墨底座包括：本体、卡瓣结构、间隙和电极配置孔。卡瓣结构设在本体上部，与本体为一体式结构；卡瓣结构包括多个子卡瓣，多个子卡瓣之间形成有间隙；电极配置孔设在本体一体式石墨底座和电子级多晶硅生产系统

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2019年11月8日建筑垃圾球磨机建筑垃圾球磨机简介我国每年产生的建筑垃圾约在155亿吨左右多晶硅石墨底座处理,1150 型破碎机这些建筑垃圾不仅影响美观，。还侵蚀着我们的生活环境，造成一定的安全隐患。 2023年12月16日本专利由洛阳中硅高科技有限公司申请，公开，本发明公开了一种具有镀层的石墨底座和电子级多晶硅生产系统，包括底座和设置在底座上的石墨卡瓣，所述石墨卡瓣包括围绕石墨卡瓣中心分布的若干子卡瓣，相邻的两个所述子卡瓣之间留置有间隙，石专利查询、专利下载就上专利顾如具有镀层的石墨底座和电子级多晶硅生产系统CNA

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2024年2月28日触电子级多晶硅，解决了因石墨而造成的电子级多晶硅产品品质下降问题。 A 4 3 6 4 0 6 7 1 1 N C CNA权利要求书1/1页 1一种具有镀层的石墨底座，包括底座和设置在底座上的石墨卡瓣，其特征在于：所述石墨卡瓣包括围绕石墨卡瓣中心分布的若干2009年7月22日本发明涉及多晶硅还原炉石墨电极的领域，特别是多晶硅还原炉石墨电极的洁净处理水淬法。背景技术在多晶硅生产中，硅芯棒由石墨电极与还原炉铜电极相连在iioo'c沉积多晶硅。石墨电极材质的纯度将影响多晶硅的质量。为了减少石墨电极中的杂质对多晶硅质量的影响，一般采取高温(110(TC)煅烧抽多晶硅还原炉石墨电极的洁净处理水淬法的制作方法 X技术网

知乎专栏随心写作，自由表达知乎

知乎专栏随心写作，自由表达知乎CN 摘要：本发明公开了多晶硅还原炉石墨电极的洁净处理水淬法,其特征在于:对石墨电极分别进行三次水淬,即先对石墨电极进行三次加热然后分别进行三次水浸冷却,水浸冷却时通过纯水进入被加热的石墨电极内部,石墨电极将纯水汽化为蒸汽,蒸汽将石墨中多晶硅还原炉石墨电极的洁净处理水淬法百度学术

石墨材料在多晶硅生产中的应用——降低碳含量,提高多晶硅品质

多晶硅产能扩张的今天,提升多晶硅产品质量是提高市场竞争能力的重要途径本文主要针对多晶硅生产中使用的石墨件可能给多晶硅带来的碳污染进行了阐述石墨件在高温下能够与氢气反应形成甲烷等烃类物质,甲烷遇红热硅棒即重新分解成碳和氢,碳与硅一起 2019年9月12日本实用新型属于多晶硅加工工具技术领域，具体涉及一种硅烷法生产电子级多晶硅热分解炉石墨底座安装工具。背景技术多晶硅在加工的过程中，须将石墨底座安装在铜电极头上，为了更好更稳定的实现石墨底座和铜电极头之间的连接，采用在铜电极头上设置外螺纹，在石墨底座下端安装槽内设置内一种硅烷法生产电子级多晶硅热分解炉石墨底座安装工具的

一种多晶硅还原炉用石墨夹头的制作方法 X技术网

2022年8月23日 1本技术涉及多晶硅还原炉领域，具体而言，涉及一种多晶硅还原炉用石墨夹头。背景技术： 2多晶硅是用于生产半导体和太阳能光伏产品的主要原料，在多晶硅还原炉中，需要用硅芯作为还原炉中进行还原反应沉积多晶硅的热载体。 3在多晶硅还原炉中，需要使用石墨夹头对硅芯进行连接固定，但该多晶硅还原炉石墨卡瓣加工底座，不仅方便对内部生产时产生的灰尘进行有效的遮挡，避免飘飞的灰尘影响工作人员的身体健康，同时也便于调节内部对石墨卡瓣固定的长度，方便对不同长度的石墨卡瓣进行固定和限位一种多晶硅还原炉石墨卡瓣加工底座[实用新型专利]百度文库

3种多晶硅废气处理工艺流程（附流程图）格林斯达环保

2023年7月12日多晶硅废气处理工艺流程一般包括以下步骤：废气收集：将多晶硅生产过程中产生的废气集中收集起来，以便后续处理。预处理：废气中含有大量的固体颗粒物和液体污染物，需要进行预处理，以防止这些物质对后续处理设备造成损坏。一般采用过滤器和本实施例中，参照图1和图2，所述可消除多晶硅碳头料的装置，包括电极1、与电极1套接的石墨底座2、放置在所述石墨底座2上的卡瓣组，以及与所述石墨底座2相匹配并与石墨底座2相连接的石墨帽3，卡瓣组的中间具有用于容置硅芯8的空腔9；所述卡瓣组由石墨一种可消除多晶硅碳头料的装置的制作方法

多晶硅还原炉石墨电极的洁净处理水淬法百度文库

2009年7月22日本发明公开了多晶硅还原炉石墨电极的洁净处理水淬法，其特征在于：对石墨电极分别进行三次水淬，即先对石墨电极进行三次加热然后分别进行三次水浸冷却，水浸冷却时通过纯水进入被加热的石墨电极内部，石墨电极将纯水汽化为蒸汽，蒸汽将石墨中的杂质 2020年6月3日本发明公开了一体式石墨底座和一种电子级多晶硅生产系统。其中，一体式石墨底座包括：本体、卡瓣结构、间隙和电极配置孔。卡瓣结构设在本体上部，与本体为一体式结构；卡瓣结构包括多个子卡瓣，多个子卡瓣之间形成有间隙；电极配置孔设在本体下部。一体式石墨底座和电子级多晶硅生产系统专利查询企查查

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2020年6月3日本发明公开了一体式石墨底座和一种电子级多晶硅生产系统。其中，一体式石墨底座包括：本体、卡瓣结构、间隙和电极配置孔。卡瓣结构设在本体上部，与本体为一体式结构；卡瓣结构包括多个子卡瓣，多个子卡瓣之间形成有间隙；电极配置孔设在本体下部。2019年11月12日本实用新型涉及多晶硅生产技术领域，尤其涉及一种还原炉石墨件。背景技术：目前在多晶硅生产领域中，在进行多晶硅还原反应时，将硅芯插在石墨件上，石墨件套在铜电极上，硅芯按照一定的电极连接方式进行安装，安装完成后，按照工艺程序进行置换、击穿、进料并进而发生气相沉积反应一种还原炉石墨件的制作方法 X技术网

CNU 一种用于多晶硅还原炉的卡瓣安装结构

2016年7月8日 CNU 一种用于多晶硅还原炉的卡瓣安装结构 Google Patents 本实用新型公开了一种用于多晶硅还原炉的卡瓣安装结构，卡瓣放置在与电极套连接的石墨底座中心位置，电极安装在还原炉的底盘上；硅芯穿过由卡瓣围成的空腔并通过石墨螺帽旋紧固 2021年6月18日本实用新型的一种多晶硅铸锭炉石墨加热器，每组升降机构包括支撑底座11、伸缩缸12和支耳13，支撑底座11的侧壁与炉体1的外侧壁连接，支耳13的侧壁与上盖8的侧壁连接，伸缩缸12的底端与支撑底一种多晶硅铸锭炉石墨加热器的制作方法 X技术网

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知乎专栏随心写作，自由表达知乎热处理热处理在高温炉的建造上，美尔森结合了在碳碳复合、石墨及高温保温材料方面的优势。产品明细保温材料：多晶硅制造保温材料：多晶硅制造美尔森：硅制造过程中的高温保温材料产品明细硅片制造工艺美尔森 Calcarb® 高温保温材料钢性板碳毡

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